ООО Хэнань Бэйцзинь Электромеханическое Оборудование
1021, 10 этаж, Корпус Б, Комплекс «Цзянъе Кайсюань», ул. Хуаюань, 122, район Цзиньшуй, г. Чжэнчжоу, пров. Хэнань, Китай
Турбомолекулярный насос — это ключевое устройство, использующее высокоскоростное вращающееся рабочее колесо для передачи импульса молекулам газа, тем самым достигая высокого и сверхвысокого вакуума.
Турбомолекулярный насос — это ключевое устройство, использующее высокоскоростное вращающееся рабочее колесо для передачи импульса молекулам газа, тем самым достигая высокого и сверхвысокого вакуума. Ниже представлен обзор его основных характеристик, областей применения и основных параметров.
Главное преимущество турбомолекулярного насоса заключается в его способности создавать чистый, безмасляный сверхвысокий вакуум, поскольку он практически не загрязняет окружающую среду парами масла во время работы.
Он также обеспечивает быстрый запуск, радиационную стойкость и устойчивость к атмосферным воздействиям. Диапазон его рабочего давления широк, обычно охватывая несколько порядков. Однако он работает в режиме молекулярного потока и должен использоваться совместно с форвакуумным насосом (например, пластинчато-роторным насосом) и не может выпускать воздух непосредственно в атмосферу.
Предельное давление: может достигать 10⁻⁹ Па или даже ниже (например, 10⁻⁹ Па)
Диапазон рабочего давления: обычно от 10⁻⁹ Па до 10⁻⁹ Па (или шире)
Скорость перекачки: от десятков до тысяч литров в секунду
Степень сжатия: зависит от типа газа. Для азота (N₂) она может достигать 10⁸⁹ Па. Для водорода (H₂) она ниже, примерно 10⁻⁹ Па. Для тяжёлых газов или паров масла она может быть выше (более 10⁻⁹ Па).
Скорость: скорость вращения ротора чрезвычайно высока, обычно от 10 000 до 90 000 об/мин.
Благодаря своим превосходным характеристикам турбомолекулярные насосы широко используются в областях, требующих высокого и сверхвысокого вакуума:
Производство полупроводников: например, травление пластин и ионная имплантация.
Научные исследования: использование в электронных микроскопах (ПЭМ), ускорителях частиц, масс-спектрометрах и управляемых термоядерных реакторах.
Промышленное нанесение покрытий: например, оптических (AR) и PVD-покрытий для получения тонких пленок высокой чистоты.